บริษัท กวางใหม่เทคโนโลยี จำกัด
+86-755-23499599
ติดต่อเรา
  • โทร: +86-755-23499599

  • แฟกซ์: +86-755-23497717

  • อีเมล:info@gmleds.com

  • เพิ่ม: กวงใหม่ เทค ปาร์ค, หมายเลข 96, กวงเทียน ถ. หยานหลัว, บาอัน เขต, เซินเจิ้น, จีน

ทีม Chinese Academy Of Sciences ได้พัฒนาความก้าวหน้าในประสิทธิภาพของ Green Lasers ที่ใช้ GaN ในประเทศ

Dec 29, 2021

ในฉบับล่าสุดของ SCIENCE CHINA Materials ทีมงาน Liu Jianping' จาก Suzhou Institute of Nanotechnology และ Nano-Bionics สถาบัน Chinese Academy of Sciences ได้เผยแพร่ความคืบหน้าการวิจัยเกี่ยวกับไดโอดเลเซอร์สีเขียวแบบ GaN


บทความนี้ใช้วิธีการวัดทางแสงแบบต่างๆ เพื่อกำหนดลักษณะโครงสร้างและเศษของ LD สีเขียว (ข้อมูลบทความ: Tian, ​​A. , Hu, L. , Li, X. et al. ยับยั้งความไม่เท่าเทียมกันที่อาจเกิดขึ้นอย่างมากและการปรับปรุงประสิทธิภาพของไดโอดเลเซอร์สีเขียว InGaN ของเครื่องบิน c-plane Sci. China Mater (2021) https:// doi.org/10.1007/s40843-021-1804-x)

1640741584_34963

(A) โครงสร้างอุปกรณ์ (b) โครงสร้าง Epitaxial

(C) แผนผังของการกระจายแสงของ LD สีเขียวตั้งฉากกับทางแยก pn


ผลการจำแนกลักษณะแสดงให้เห็นว่าเมื่อความหนาแน่นของพลังงานกระตุ้นคือ 7 W cm-2 ความกว้างครึ่งความสูงโฟโตลูมิเนสเซนซ์ที่ 300 K คือ 108 meV และเมื่อความหนาแน่นกระแสคือ 20 A ซม. -2 ความกว้างครึ่งความสูงการเรืองแสงด้วยไฟฟ้าจะเท่ากับ 114 ฉันวี เหล่านี้ ผลการวิจัยแสดงให้เห็นว่าความสม่ำเสมอของพลังงานศักย์ได้รับการปรับปรุงอย่างมีนัยสำคัญ ในเวลาเดียวกัน ค่าของ σ ซึ่งกำหนดลักษณะความกว้างของการแจกแจงของรัฐในพื้นที่ที่ได้รับจากการทดสอบการเรืองแสงด้วยอุณหภูมิแปรผัน และค่า E0 ของสถานะหางของแถบท้องถิ่น exciton ที่ได้จากการทดสอบโฟโตลูมิเนสเซนซ์ที่แก้ไขเวลา มีขนาดเล็กมาก แสดงว่ามีความสม่ำเสมอของพลังงานศักย์สูงมาก ดี. เนื่องจากความสม่ำเสมอของพลังงานศักย์ที่ได้รับการปรับปรุงอย่างมาก จึงได้ชิป LD สีเขียวที่มีประสิทธิภาพความชัน 0.8 W A-1 และกำลังแสงเอาต์พุต 1.7 W

1640741587_40350

(A) สเปกตรัม EL ภายใต้ความหนาแน่นกระแสต่างกัน (b) กำลังขับของ LD . สีเขียว


นอกจากนี้ ทีม Liu Jianping ยังรายงานผลการวิจัยของเลเซอร์สีน้ำเงิน GaN ที่งานประชุมวิชาการ Fourth Wide Bandgap Semiconductor Academic Conference เมื่อวันที่ 8 พฤศจิกายน พ.ศ. 2564 โดยอิงจากงานก่อนหน้านี้ ผ่านการใช้เทคโนโลยีชิปพลิกและโครงสร้างบรรจุภัณฑ์ที่ทนต่อความร้อนต่ำ , กำลังขับแสงของเลเซอร์สีน้ำเงินที่ทำงานอย่างต่อเนื่องเพิ่มขึ้นอย่างมาก ความต้านทานความร้อนของแพ็คเกจคือ 6.7 K/W และกำลังออปติคัลเอาท์พุตที่ทำงานอย่างต่อเนื่องถึง 7.5 W

1640741589_37562

ไดอะแกรมแรงดันไฟฟ้ากระแสสลับแสงของเลเซอร์สีน้ำเงินที่พัฒนาโดยทีมงาน Liu Jianping' ที่สถาบันนาโนเทคโนโลยีซูโจว


เราสังเกตเห็นว่าการวิจัยล่าสุดเกี่ยวกับเลเซอร์ที่ใช้ GaN ยังคงร้อนขึ้น และมีรายงานอย่างต่อเนื่องเกี่ยวกับการพัฒนาที่เกี่ยวข้อง ในเดือนมีนาคมปีนี้ ทีมงานของ Kang Junyong และ Li Jinchai จากมหาวิทยาลัยเซียะเหมินและ San'an Optoelectronics ประสบความสำเร็จอย่างมากในโครงการวิจัยเทคโนโลยีร่วมกัน การออกแบบและการผลิตเลเซอร์สีน้ำเงิน InGaN กำลังสูงพิเศษ 8 วัตต์ได้มาตรฐานสากลแล้ว ผลลัพธ์ถูกตีพิมพ์ในวารสาร Optics and Laser Technology


ในเดือนสิงหาคม ทีมนักวิจัย Zhao Degang จาก State Key Laboratory of Integrated Optoelectronics ของ Institute of Semiconductors ของ Chinese Academy of Sciences ได้พัฒนาเลเซอร์สีน้ำเงินกำลังสูงที่ใช้แกลเลียมไนไตรด์ (GaN) โดยมีกำลังขับต่อเนื่องสูงถึง 6W ที่อุณหภูมิห้อง ผลลัพธ์ถูกตีพิมพ์ใน Journal of Semiconductors (ข้อมูลบทความ: doi: 10.1088/1674-4926/42/11/112801)


ความเจริญด้านการวิจัยเกิดขึ้นจากการเติบโตอย่างรวดเร็วและมั่นคงของตลาดเลเซอร์ GaN ซึ่งเริ่มมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในหลายสาขา เช่น การจัดแสดง การจัดเก็บ การทหาร การแพทย์ เครื่องมือวัด ความบันเทิง การพิมพ์หิน และการพิมพ์ อย่างไรก็ตาม เลเซอร์ GaN นั้นผลิตได้ยากและมีอุปสรรคทางเทคนิคมากมาย ผลิตภัณฑ์ถูกควบคุมโดยบริษัทข้ามชาติขนาดใหญ่หลายแห่งมาเป็นเวลานาน และเป็นที่รู้จักในนามอัญมณีบนมงกุฎ ปัญหาทางเทคนิคส่วนใหญ่รวมถึง: วัสดุซับสเตรตคุณภาพสูง โครงสร้างเอพิเทกเซียลคุณภาพสูง หน้าสัมผัสโอห์มมิกคุณภาพสูง และความแตกแยกของผลึกปรมาณู

ขนาดและการจำแนกประเภทแอปพลิเคชันตลาดเลเซอร์ทั่วโลก

1640741592_50708

ตัวอย่างวัสดุพื้นผิวคุณภาพสูง วัสดุพิมพ์จะต้องเป็นวัสดุที่มีความหนาแน่นของข้อบกพร่องต่ำ เมื่อเทียบกับอุปกรณ์ GaN อื่นๆ เลเซอร์ที่ใช้ GaN มีข้อกำหนดที่เข้มงวดที่สุดสำหรับคุณภาพคริสตัล เนื่องจากความหนาแน่นในปัจจุบันของเลเซอร์ GaN นั้นสูงกว่าอุปกรณ์ทั่วไปหนึ่งแสนหรือพันเท่า ดังนั้น หากมีข้อบกพร่องที่มีความหนาแน่นสูงของการเคลื่อนตัวในวัสดุ จะเกิดเส้นทางการรั่วไหล นำไปสู่ความล้มเหลวของอุปกรณ์อย่างรวดเร็ว


วิธีการทั่วไปคือการ epitaxial โครงสร้างเลเซอร์บนพื้นผิวผลึกเดี่ยว GaN แล้วเตรียมเลเซอร์เซมิคอนดักเตอร์ ปัจจุบัน Sumitomo Electric ซึ่งเป็นซัพพลายเออร์วัสดุพิมพ์ monocrystalline ชั้นนำของโลก' เป็นพันธมิตรที่สำคัญของ Nichia และถูกห้ามค้าขายอย่างเข้มงวดเนื่องจากการใช้งานทางทหารที่สำคัญ


โชคดีที่ในช่วงไม่กี่ปีที่ผ่านมา ผู้ผลิตวัสดุพิมพ์รายใหญ่ในประเทศซึ่งเป็นตัวแทนของ Suzhou Navitas และ Dongguan Zhonggal มีความก้าวหน้าอย่างรวดเร็วในการพัฒนาพื้นผิวคริสตัลเดี่ยว GaN คุณภาพสูง ความหนาแน่นของการเคลื่อนที่ของผลิตภัณฑ์ Navitas สูงถึง 104cm-2 , การเข้าถึงโลก&ระดับสูง #39; โดยทั่วไปการแก้ปัญหาของวัสดุพื้นผิวเลเซอร์ GaN ที่เป็น"ติดอยู่" โดยต่างประเทศ


สรุปแล้ว


Nichia ยังคงควบคุมตลาดเลเซอร์ GaN กำลังแรงสูงในปัจจุบัน ในขณะที่ Sharp และ Osram เป็นซัพพลายเออร์รายใหญ่ของโลก' ของเลเซอร์ที่ใช้ GaN ขนาดกลางและขนาดเล็ก หากประเทศของฉันต้องการเข้าสู่ตลาดนี้ จะต้องเพิ่มการลงทุนในด้านวิศวกรรมและอุตสาหกรรม และมุ่งมั่นที่จะเอาชนะปัญหาและความยากลำบากของอุตสาหกรรม เพื่อที่จะทำลายการผูกขาดระหว่างประเทศได้อย่างสมบูรณ์และตระหนักถึงการแปลเลเซอร์ที่ใช้ GaN อย่างแท้จริง